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Der Projektbereich A hat sich in der vergangenen Förderperiode mit der Erarbeitung der wissenschaftlichen Grundlagen zur Metrologie, zur Mess- und Positioniertechnik, zu Nanoprobes für die Antastung und Vermessung, sowie mit Nanotools für die Inspektion und die Bearbeitung von Objekten in Nanopositionier- und Nanomessmaschinen befasst. Zu Beginn der Förderperiode gab es Defizite in der Grundlagenforschung zu einer dreidimensionalen Nanomess-, Nanopositionier- und -bearbeitungstechnik mit großen Arbeitsbereichen und Nanometerpräzision. Die Forschungsarbeiten konzentrierten sich deshalb auf Mess- und Positionierbereiche von 200 x 200 x 5 mm³, Messauflösungen von 0,1 nm und Reproduzierbarkeiten von 1 nm. Diese Anforderungen gingen sowohl über die Leistungsparameter der klassischen Rastersondentechnik (kleinere Arbeitsbereiche, mangelnde metrologische Rückführbarkeit) als auch über den Technikstand der Halbleitermetrologie (2D Positioniertechnik; 2,5D Nanomesstechnik) hinaus. Die Realisierung der dritten Dimension für große Arbeitsbereiche von 200 x 200 x 5 mm³ erforderte im Nanometerbereich neue metrologische Konzepte (Teilprojekt A1) einschließlich der Erforschung einer entsprechend komplexen Mess- und Positioniertechnik (Teilprojekte A2 und A5). Zentraler Ansatzpunkt war die konsequente Umsetzung des Abbe-Komparatorprinzips in allen drei Achsen bei gleichzeitiger Messung und aktiver Ausregelung der Führungsabweichungen.

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