Im Rahmen des bisherigen Teilprojektes A2 wurden die Grundlagenuntersuchungen zu Nanolängenmesssystemen für Auflösungen bis 0,1 nm in einem Messbereich von 250 mm durchgeführt. Im Ergebnis der Untersuchungen zu den Nanolängenmesssystemen konnte die Auflösung von 1,24 nm auf 0,1 nm und die Temperaturabhängigkeit von 1,5 μm/K auf 0,07 μm/K reduziert werden. Bei der Reduzierung der Messunsicherheit und der Erhöhung der Messdynamik konnten gute Fortschritte erreicht werden. Das Positionsrauschen konnte von mehr als 3 nm auf 0,3 nm reduziert werden. Im zweiten Schwerpunkt wurden Grundlagenuntersuchungen zu mechanisch-taktilen sowie zu optischen Tastsystemen durchgeführt. Mit experimentellen Untersuchungen an einem neuen Fokussensor konnten Messunsicherheiten < 1 nm nachgewiesen werden. Damit sind die erreichten Ergebnisse deutlich besser als der bisherige Stand der Technik. Weiterhin wurden sowohl ein kommerzielles als auch ein selbst entwickeltes Rasterkraftmikroskop in die NPMM integriert und damit umfangreiche Untersuchungen durchgeführt, die die neuen Möglichkeiten der Nanomess- und Nanopositioniertechnik unterstreichen. Schließlich wurden Arbeiten zu lichtwellenleitergekoppelten optoelektronischen Winkelsensoren durchgeführt, wobei Winkelauflösungen von 0,001“ erzielt wurden.