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Teilprojekt A3 Lithografie-Nanotools
Fachgebiet Festkörperelektronik

Im Teilprojekt A3 wurden zwei Nanotools untersucht, die eine in situ Strukturierung von Nanoobjekten und -oberflächen realisieren können. Dies ist zum einen ein photonisches Nahfeld-Tool mit dem eine großflächige und hoch auflösende Visualisierung bei gleichzeitiger Modifikation einer Oberfläche erzielt werden kann und zum anderen eine atmosphärische Mikro-Elekronenquelle für lithografische Anwendungen. Die Idee für das photonische Nahfeld-Tool basiert auf faseroptischen Systemen, wie sie aus der Waferinspektion, der Medizin und der Überwachung von Mikrosystemen bekannt sind. Dabei werden makroskopische Glaspreformen zu einer dichten Packung gebündelt und zu Mikro- bis Nanostrukturen verzogen. Die in der Größenordnung der Wellenlänge periodische variierende Anordnung entspricht einem photonischen Kristall und es kommt zur Ausbildung einer photonischen Bandlücke. In diesem Bereich existieren keine ausbreitungsfähigen Moden innerhalb des Kristalls. Das gezielte Einbringen eines Defektes ermöglicht die Anregung von Moden und die Energieausbreitung entlang des Defektes. Es konnte theoretisch nachgewiesen werden, dass reale verzogene photonische Lichtwellenleiter eine größere relative Bandlücke und somit ein robusteres optisches Verhalten aufweisen. Weiterhin konnte gezeigt werden, dass eine laterale Lasereinkopplung mit den zurzeit verwendeten Gläsern möglich ist. 

Projektleiter:  Prof. Dr.-Ing. habil. Theodor Doll
Mitarbeiter: Dipl.-Ing. Thomas Haas

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