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- Erarbeitung
von wissenschaftlich-technischen Grundlagen zum Entwurf und
zur Realisierung von
Nanopositionier- und Nanomessmaschinen (NPM-Maschinen)
- die
NPM-Maschinen müssen Forderungen nach immer größeren
Bewegungsbereichen mit extremen
Genauigkeiten und hohen
Positioniergeschwindigkeiten genügen
- Einsatz
in zukunftsorientierten Technologien und Techniken wie z.B. in
der Halbleitertechnik, der
extremen UV-, der Elektronenstrahl-
und Röntgenlithographie, der Nanoimprinting Lithographie, der
Nanostrukturierung, der Nanofabrication, des
Waferlevel -
Testing, der Mikromechanik, der
Kristallographie und
Mineralogie aber auch in der Bio- und Gentechnik
- dort
sollen technische, technologische und analytische Operationen
mit höchster Präzision und
Dynamik ausgeführt werden
- in
den Jahren 2010 – 2014 müssen Positionierbereiche von 450
mm x 450 mm mit
Subnanometerreproduzierbarkeit
(Strukturbreiten von etwa 35 nm sind zu realisieren) und
Bahngeschwindigkeiten von 0,2 – 0,5 m/s zur Verfügung
stehen
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